LCD RF-plasmautstyr

LCD RF-plasmautstyret er et-høyytelsessystem utviklet for overflatebehandling av LCD, OLED og andre flatpanelmaterialer. Den er designet for å møte de strenge kravene til moderne produksjon, hvor stabil prosessering og høy gjennomstrømning er like viktig. Det totale systemet måler 880 mm × 790 mm × 1710 mm, med en vakuumkammerstørrelse på 450 mm × 450 mm × 450 mm. Hver elektrodeplate er 410 mm × 430 mm, og opptil fem lag med underlag kan behandles samtidig i en enkelt syklus.

 

Fra et funksjonelt perspektiv gir utstyret en bruker-vennlig HMI som tillater direkte justering av nøkkelprosessparametere som RF-utgangseffekt, vakuumpumpingsvarighet, individuelle behandlingssegmenter og gassstrømningshastigheter. Disse innstillingene kan endres raskt for å tilpasse seg ulike materialer eller prosesskrav, og tilbyr både fleksibilitet og konsistens for industrielle operasjoner.

Gassleveringssystemet støtter tre uavhengige kanaler og kan håndtere nitrogen (N₂), argon (Ar), hydrogen (H₂) og oksygen (O₂). Strømningsmålere er kalibrert innenfor et område på 0–200 ml/min, med kontrollnøyaktighet som holder svingninger under 5 %. Alle de viktigste pneumatiske komponentene er levert av SMC, og kammerforseglingen er avhengig av holdbare fluor-gummipakninger, som sikrer langsiktig-stabilitet i krevende miljøer. Plasma genereres gjennom en selv-adaptiv RF-strømforsyning som opererer på 13,56 MHz, med en maksimal effekt på 1 kW, som garanterer pålitelig energilevering for jevn behandling.

Strukturelt er kammeret produsert av høy-renhet 304 rustfritt stål for å minimere oksidasjon og korrosjon. Systemet bruker en dobbel-tetning for vakuumintegritet, mens kobberelektrodeholdere på baksiden av kammeret sikrer horisontale elektrodeplater gjennom flere skruelåser, og forbedrer stabiliteten og energioverføringen. Ytterligere sidestøtter forsterker elektrodene ytterligere. Vakuumbalansen er optimalisert: en hurtig-utløserventil tillater trykkutjevning innen 5–10 sekunder, noe som reduserer tomgangstiden og øker produktiviteten.

For å ivareta driftssikkerheten er maskinen utstyrt med et feilalarmsystem. Den logger dato, klokkeslett og årsak til enhver unormal hendelse, mens automatisk avstengning utløses for å beskytte både kammeret og arbeidsstykkene.

Når det gjelder bruk, er dette utstyret mye brukt for flip-chip underfill-prosesser. Plasmarengjøring før underfylling forbedrer overflateaktiveringen betydelig, forbedrer fuktbarheten og øker adhesjonen mellom underlaget og innkapslingsmidlet. Som et resultat forbedrer det ikke bare emballasjekvaliteten, men forbedrer også den langsiktige-påliteligheten til avanserte skjerm- og halvledersammenstillinger.

Populære tags: lcd rf plasma utstyr, Kina lcd rf plasma utstyr produsenter, fabrikk